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利用神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)進行 CMP 氧化物沉積表面輪廓建模
- 簡介化學機械拋光 (CMP) 是當今集成電路 (IC) 制造工藝中的關(guān)鍵作業(yè)。由于設(shè)計極其緊湊,并且 縮小到最先進的工藝技術(shù)節(jié)點,CMP 后的平面性變化可能會對制造成功產(chǎn)生重大影響。為了減輕 CMP 工藝的負面影響,大多數(shù) IC 制造商使用 CMP 建模來檢測前道工序 (FEOL) 和 后道工序 (BEOL) 層中的潛在弱點,作為其可制造性設(shè)計 (DFM) 流程的一部分。CMP 弱點分 析旨在尋找設(shè)計中經(jīng)過 CMP 后出現(xiàn)缺陷的概率高于平均值的區(qū)域。不同材料在 CMP 工藝 下會表現(xiàn)出不同的腐蝕速率,因此
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用于扇出型晶圓級封裝的銅電沉積
- 隨著集成電路設(shè)計師將更復雜的功能嵌入更狹小的空間,異構(gòu)集成包括器件的3D堆疊已成為混合與連接各種功能技術(shù)的一種更為實用且經(jīng)濟的方式。作為異構(gòu)集成平臺之一,高密度扇出型晶圓級封裝技術(shù)正獲得越來越多的認可。此種封裝解決方案的主要優(yōu)勢在于其封裝的基片更少,熱阻更低,電氣性能也更優(yōu)秀。這是一個體現(xiàn)“超越摩爾定律”的例子,即使用 “摩爾定律”以外的技術(shù)也能實現(xiàn)更高的集成度和經(jīng)濟效益。圖1. 2.5D封裝中的中介層結(jié)構(gòu)異構(gòu)集成技術(shù)高密度扇出型封裝技術(shù)滿足了移動手機封裝的外形尺寸與性能要求,因此獲得了技術(shù)界的廣泛關(guān)注。
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意法半導體 (ST) 通過CMP為原型設(shè)計廠商提供先進的BCD8sP智能功率技術(shù)
- 橫跨多重電子應(yīng)用領(lǐng)域、全球領(lǐng)先的半導體供應(yīng)商意法半導體 (STMicroelectronics,簡稱ST) 和 CMP (Circuits Multi Projets®) 宣布,通過CMP的硅制造代理服務(wù) (silicon brokerage service),讓大學院校、科研實驗室和設(shè)計企業(yè)有機會使用意法半導體的 BCD8sP 智能功率芯片制造技術(shù)平臺。 這是意法半導體首次向第三方廠商開放BCD技術(shù),反映了功率集成概念在提升計算機、消費電子、工業(yè)應(yīng)用的性能等方面越來越重要。意法半導體傳
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德州儀器授予 12 家供應(yīng)商年度卓越供應(yīng)商獎
- 日前,德州儀器?(TI)?宣布其1萬兩千多家供應(yīng)商中的?12?家公司憑借出色的產(chǎn)品、服務(wù)和支持榮獲年度卓越供應(yīng)商獎。獲獎評選根據(jù)各種標準,包括成本、環(huán)境與社會責任、技術(shù)、響應(yīng)能力、供應(yīng)保障與質(zhì)量等?! I?全球采購及物流副總裁?Rob?Simpson?指出:“過去幾年來,TI?經(jīng)歷了戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型,現(xiàn)已成為一家專注于模擬與嵌入式處理的公司。我們很多重要的供應(yīng)商,包括2014?年?度卓越供應(yīng)商獎得主
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陶氏電子材料事業(yè)群針對鈰基研磨應(yīng)用領(lǐng)域推出IKONIC?4000系列新CMP研磨墊產(chǎn)品
- 陶氏化學公司旗下的陶氏電子材料事業(yè)群日前推出了IKONIC??4000系列的化學機械研磨(CMP)研磨墊產(chǎn)品。該系列研磨墊初期將主要面向鈰基應(yīng)用。 “業(yè)界對于IKONIC??技術(shù)?的總體反映可謂出奇的好,”陶氏電子材料事業(yè)群的CMPT?市場營銷總監(jiān)Colin?Cameron?介紹說?!癐KONIC?4000?系列為我們提供了最尖端的產(chǎn)品設(shè)計所普遍需要的很多至關(guān)重要的屬性。這些研磨墊具備高度的可調(diào)性,能夠進行定制以應(yīng)對特定
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數(shù)據(jù)處理指令之: CMP比較指令
- 電子產(chǎn)品世界,為電子工程師提供全面的電子產(chǎn)品信息和行業(yè)解決方案,是電子工程師的技術(shù)中心和交流中心,是電子產(chǎn)品的市場中心,EEPW 20年的品牌歷史,是電子工程師的網(wǎng)絡(luò)家園
- 關(guān)鍵字: 數(shù)據(jù)處理指令 CMP 比較 微處理器 ARM
高介電常數(shù)柵電介質(zhì)/金屬柵極的FA CMP技術(shù)
- 高介電常數(shù)柵電介質(zhì)和金屬柵極技術(shù)(以下簡稱HKMG)使摩爾定律在45/32納米節(jié)點得以延續(xù)。目前的HKMG工藝有兩 ...
- 關(guān)鍵字: 高介電 常數(shù)柵 電介質(zhì)/金屬柵極 FA CMP
Alpsitec喜獲中國河北工業(yè)大學訂單
- 在法國東南部阿爾卑斯山腳下的格勒諾布爾市(Grenoble)及附近地區(qū),因為該區(qū)域內(nèi)有CEA-LETI研究院、ST微電子研發(fā)中心等多家頂級微電子研究機構(gòu)和多所大學,近年成為了歐洲半導體產(chǎn)業(yè)的新科技中心,同時許多新創(chuàng)公司在該地區(qū)成立并取得發(fā)展,因而被稱為歐洲硅谷。位于此間專注于化學機械拋光(CMP)和工業(yè)視覺的Alpsitec有限公司不久前喜獲中國河北工業(yè)大學訂單,在該地區(qū)中小半導體企業(yè)中掀起了一次“中國潮”。
- 關(guān)鍵字: Alpsitec 半導體 CMP E460
中國半導體CMP市場潛力無限
- 作為芯片制造不可或缺的一環(huán),CMP工藝在設(shè)備和材料領(lǐng)域歷來是“兵家必爭之地”。中國自2007年以來一直是最大的半導體消費國,但半導體產(chǎn)量卻不足國內(nèi)消耗量的10%。未來幾年,中國預(yù)計將投資數(shù)十億美元來彌合產(chǎn)量與消耗量之間的差距,主要是從二級設(shè)備市場獲取工具以提高生產(chǎn)能力。 Entrepix Asia董事總經(jīng)理TK Lee表示,“Entrepix已經(jīng)充分準備好支持中國的發(fā)展。通過Entrepix Asia,我們?yōu)橹袊鴰砹舜罅糠逻^的化學機械研磨和度量及相關(guān)設(shè)備、
- 關(guān)鍵字: 芯片制造 CMP
Schiltron與Entrepix合作利用CMP達成3-D閃存制造新架構(gòu)?
- 3-D Flash新創(chuàng)公司Schiltron Corporation與專門提供化學機械拋光設(shè)備及代工服務(wù)的領(lǐng)先供應(yīng)商Entrepix合作發(fā)展使用現(xiàn)有的材料,工具和制程的方法制造3-D Flash,從而利用簡單直接的方式擴大產(chǎn)量。 Schiltron 3-D Flash制造方式的最關(guān)鍵工藝的步驟是化學機械設(shè)備(CMP)的達成。該公司的聯(lián)合開發(fā)的努力已制造迄今為止最小的矽基薄膜電晶體(Silicon-base thin-film transistors) 。 晶體管結(jié)構(gòu)和低溫度預(yù)算工藝步驟(low
- 關(guān)鍵字: Entrepix 晶體管 CMP 矽基薄膜電晶體
2009年中國國際半導體技術(shù)研討會成功在上海舉辦
- 由SEMI、ECS及中國高科技專家組共同舉辦的中國國際半導體技術(shù)研討會成功于3月19-20日在上海召開。諾貝爾物理學獎得主、IBM院士Georg Bednorz、Intel資深院士Robert Chau、IMEC CEO Gilbert Declerck、Praxair CTO Ray Roberge為大會作主題演講,為550名與會的國內(nèi)外半導體產(chǎn)業(yè)界人士介紹國際最前沿的納米技術(shù)、微電子技術(shù)的發(fā)展趨勢。本次研討會的成功召開為提升中國半導體產(chǎn)業(yè)的技術(shù)水平,將國際最先進的技術(shù)與理念引進中國起到了積極的推動
- 關(guān)鍵字: Intel 半導體 光刻 薄膜 CMP
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